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扬州TiSi靶材价格

发布时间:2020/08/03

中频双靶反应磁控溅射与直流反应磁控溅射相比具有以下几个显巨优点:   (1)消除了靶面打弧放电现象,中频反应磁控溅射镀制的绝缘薄膜与直流反应磁控溅射镀制的同种膜相比,膜面缺 陷要少几个数量级;   (2)可以得到比直流反应磁控溅射高出数倍的溅射沉积速率;   (3)中频双靶反应磁控溅射的整个溅射沉积过程,可以始终稳定在所设定的工作点上,为大规模工业化稳定生产提供了条件。   选用非对称双极脉冲靶电源与选用“双靶-中频靶电源”不同,仅使用单个磁控靶进行反应磁控溅射,调节相应的镀膜工艺参数,可以消除磁控靶面打弧放电现象和实现长时间稳定的薄膜沉积,可以达到上述“中频-双靶反应磁控溅射”的同样效果。 需要后续热加工和热处理工艺降低其孔隙率。扬州TiSi靶材价格

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所述抛光片第二部分320呈弧状,与经圆角处理的靶材侧棱相匹配,可对靶材侧棱进行抛光。所述抛光片第三部分330表面为平整的平面,能够对靶材侧壁表面进行抛光。因此所述靶材抛光装置100能够同时对靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱进行抛光,有助于提高抛光作业效率。

此外,由于操作人员同时对靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱进行抛光,因此操作人员施加在靶材侧壁表面及侧棱上的力度差异小,抛光工艺结束后,靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱表面具有相近似甚至完全相同的平整度,使得抛光表面具有良好的均一性,有助于改善溅射镀膜质量。若分步骤对靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱表面进行抛光,操作人员在两个步骤中施加的力度容易差别较大,造成抛光处理后,靶材侧壁表面与侧棱表面粗糙度差异大,使得靶材侧壁表面与侧棱表面交接处具有台阶。在溅射镀膜过程中,所述台阶容易导致前列放电,影响溅射镀膜的均一性,造成镀膜质量差。 上海AlCr靶材价钱由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?

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可选的,所述靶材抛光装置还包括:防护层,所述防护层位于所述固定板与所述抛光片之间。

可选的,所述防护层为弹性材料。

可选的,所述防护层的材料为***、橡胶或棉花。

可选的,所述靶材抛光装置还包括:把手,所述把手设置于所述固定板的外表面上。

可选的,所述把手的数量为两个,其中一个所述把手设置于所述固定板的顶部,另一个所述把手设置于所述固定板的侧壁上。

与现有技术相比,本发明的技术方案具有以下优点:

本发明提供的靶材抛光装置的技术方案中,所述靶材抛光装置包括:固定板,所述固定板包括顶板和位于所述顶板一侧的侧板;抛光片,位于所述固定板内侧面上,其中位于固定板弯折处的抛光片呈弧状。位于固定板弯折处的抛光片表面适于对靶材经圆角处理的侧棱进行抛光,位于侧板上的所述抛光片表面适于对靶材侧壁表面进行抛光。所述靶材抛光装置能够对靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱同时进行抛光,因此所述靶材抛光装置有助于提高对靶材表面进行抛光的作业效率。

真空离子镀厚功能镀膜代替现行电镀 真空离子镀厚特性: (1)不用酸碱盐、不用氰化物、不产生六价鉻,没有三廢排放,对环境没有污染,对人体旡害。 (2)镀膜附着性好不易脱落,有过渡层。 (3)可镀制厚功能鍍膜有耐磨、耐蚀、耐热及特殊性能等镀膜。 (4)镀膜硬度可达Hv2000左右, 可据要求而定。 (5)镀膜厚度可达40微米以上,可据要求而定。 (6)工件基材钢铁为主,有色金属及其合金也可据要求采用。 应用领域:活塞环、轴承轴瓦、叶片、搬手、筛具、压铸模具、 量具、绞刀、丝锥、 板牙、五金工具、机床顶針、一般耐磨件、钳子口、零件修复等等。 在真空条件下气体之间不可能进行热传导,所以,化学反应必须在一个固体表面进行。

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影响磁控靶溅射电压的主要因素有:靶面磁场、靶材材质、气体压强、阴-阳极间距等。本文详细分析这些因素距对靶溅射电压的影响。   一、 靶面磁场对靶溅射电压的影响 1. 磁控靶的阴极工作电压,随着靶面磁场的增加而降低,也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而降低。溅射电流也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而加大。这是因为靶的溅射刻蚀槽面会越来越接近靶材后面的磁钢的强磁场。因此,靶材的厚度是有限制的。较厚的非磁性靶材能够在较强的磁场中使用。   2. 铁磁性靶材会对磁控靶的溅射造成影响,由于大部分磁力线从铁磁性材料内部通过,使靶材表面磁场减少,需要很高电压才能让靶面点火起辉。除非磁场非常的强,否则磁性材靶材必须比非磁性材料要薄,才能起辉和正常运行(永磁结构的Ni靶的典型值<0.16cm,磁控靶非特殊设计最大值一般不宜超过3mm,Fe,co靶的最大值不超过2mm;电磁结构的靶可以溅射厚一些的靶材,甚至可达6mm厚)才能起辉和正常运行。正常工作时,磁控靶靶材表面的磁场强度为0.025T~0.05T左右;靶材溅射刻蚀即将穿孔时,其靶材表面的磁场强度大为提高,接近或大于0.1T左右。当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全中毒,在靶面上沉积一层化合金属膜。无锡氮化硼靶材图片

一般情况下金属的溅射系数要比化合物的溅射系数高,所以靶中毒后溅射速率低。扬州TiSi靶材价格

施例8

本实施例提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.78mm;所述靶材表面的硬度为26hv;

其中,所述靶材的比较大厚度为22mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角为4°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之间;所述***平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括钛;所述背板的材质包括铝。

所得靶材组件溅射强度好,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。

对比例1

与实施例1的区别仅在于所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.5mm;所得靶材组件溅射强度差,使得溅射过程中薄膜厚度不均匀,使用寿命减少。

对比例2

与实施例1的区别仅在于所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为8mm;所得靶材组件溅射强度差,使得溅射过程中薄膜厚度不均匀,使用寿命减少。 扬州TiSi靶材价格

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外知名研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列高品质溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供高品质的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。

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